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六甲基二硅氮烷
简 称 HMDS
别 名 六甲基二硅胺烷 | 双（三甲基硅）胺烷
外文名 HEXAMETHYLDISILAZANE
分子式 (CH3)3SiNHSi(CH3)3
分子量 161.39
六甲基二硅氮烷可由三甲基一氯硅烷与氨气反应制得:
2 (CH3)3SiCl + 3 NH3 → [(CH3)3Si]2NH + 2 NH4Cl
由于六甲基二硅氮烷会在潮湿空气中缓慢水解, 该反应通常应用真空技术进行.
六甲基二硅氮烷的碱金属化合物可由六甲基二硅氮烷去质子化制得. 例如六甲基二硅氮基锂(LiHMDS)可由六甲基二硅氮烷与丁基锂反应制取:
[(CH3)3Si]2NH + BuLi → [(CH3)3Si]2NLi + C4H10
六甲基二硅氮基钠(NaHMDS)、六甲基二硅氮基钾(KHMDS)和六甲基二硅氮基锂(LiHMDS)均为非亲核碱，是没有亲核性的碱。
应用
在微影技术中, 六甲基二硅氮烷常被用作增加光阻剂表面附着能力的增粘剂。六甲基二硅氮烷在气态时用在加热过的基板上会得到 的效果。
在电子显微镜, 六甲基二硅氮烷可以作为样品制备过程中的临界点干燥的干燥剂。
在裂解—气液色谱—质谱，六甲基二硅氮烷在裂解时会被加到分析物里以产生硅烷化分析产物（sylilated diagnostic products）并以极性官能团加强化合物的侦测性
CAS号 999-97-3
EINECS 213-668-5
密 度 0.770—0.780
折光率 1.408±0.002
闪 点 27℃
沸 点 126℃
色 度 ≤10
性 状 无色透明液体、略带胺味
溶解性 溶于有机溶剂
用 途：
1.特种有机合成。硅藻土、白炭黑、钛等粉末的表面处理。半导体工业中光致刻蚀剂的粘结助剂。
2.为阿米卡星药用中间体，是羟基及氨基保护剂
3.用于生产橡胶、药物。该品是消减气相色谱载体表面吸附活的减尾剂。
4.碱性硅烷化保护剂，无机填料处理剂
简 称 HMDS
别 名 六甲基二硅胺烷 | 双（三甲基硅）胺烷
外文名 HEXAMETHYLDISILAZANE
分子式 (CH3)3SiNHSi(CH3)3
分子量 161.39
2 (CH3)3SiCl + 3 NH3 → [(CH3)3Si]2NH + 2 NH4Cl
由于六甲基二硅氮烷会在潮湿空气中缓慢水解, 该反应通常应用真空技术进行.
六甲基二硅氮烷的碱金属化合物可由六甲基二硅氮烷去质子化制得. 例如六甲基二硅氮基锂(LiHMDS)可由六甲基二硅氮烷与丁基锂反应制取:
[(CH3)3Si]2NH + BuLi → [(CH3)3Si]2NLi + C4H10
六甲基二硅氮基钠(NaHMDS)、六甲基二硅氮基钾(KHMDS)和六甲基二硅氮基锂(LiHMDS)均为非亲核碱，是没有亲核性的碱。
应用
在微影技术中, 六甲基二硅氮烷常被用作增加光阻剂表面附着能力的增粘剂。六甲基二硅氮烷在气态时用在加热过的基板上会得到 的效果。
在电子显微镜, 六甲基二硅氮烷可以作为样品制备过程中的临界点干燥的干燥剂。
在裂解—气液色谱—质谱，六甲基二硅氮烷在裂解时会被加到分析物里以产生硅烷化分析产物（sylilated diagnostic products）并以极性官能团加强化合物的侦测性
CAS号 999-97-3
EINECS 213-668-5
密 度 0.770—0.780
折光率 1.408±0.002
闪 点 27℃
沸 点 126℃
色 度 ≤10
性 状 无色透明液体、略带胺味
溶解性 溶于有机溶剂
用 途：
1.特种有机合成。硅藻土、白炭黑、钛等粉末的表面处理。半导体工业中光致刻蚀剂的粘结助剂。
2.为阿米卡星药用中间体，是羟基及氨基保护剂
3.用于生产橡胶、药物。该品是消减气相色谱载体表面吸附活的减尾剂。
4.碱性硅烷化保护剂，无机填料处理剂
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